蒂姆(北京)新材料科技有限公司可提供多種成分、多種尺寸、多種工藝金屬氧化物靶材。 常用參數: 靶材純度:99.9%、99.95%、99.99% 制備工藝:熱等靜壓、常溫燒結等 靶材形態:平面靶、多弧靶、臺階靶、異形靶 圓靶尺寸:φ25.4*3mm、φ50*3mm、φ50.8*4mm、φ60*3mm、φ76.2*3mm、φ80*4mm、φ101.6*5mm、φ152.4*6mm 尺寸可定制 方靶尺寸:50*50*3mm、100*100*4mm、300*300*5mm 尺寸可定制 綁定服務:陶瓷靶材亦可提供銅背靶銦焊綁定服務,提高陶瓷靶材導電導熱性,提高使用效率 包裝方式:真空包裝 |
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化學式 | 品名 | 純度(%) | 致密度 | 適用設備 |
SiO2 | 二氧化硅 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
HfO2 | 二氧化鉿 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
TiO2 | 二氧化鈦 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
ZrO2 | 二氧化鋯 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
WO3 | 三氧化鎢 靶材 | 3N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
Nb2O5 | 五氧化二鈮 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
Ta2O5 | 五氧化二鉭 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
MoO3 | 三氧化鉬 靶材 | 3N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
Sc2O3 | 三氧化二鈧 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
Al2O3 | 氧化鋁 靶材 | 3N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
ZnO | 氧化鋅 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
MgO | 氧化鎂 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
Bi2O3 | 氧化鉍 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
Cr2O3 | 氧化鉻 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
NiO | 氧化鎳 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
V2O5 | 氧化釩 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
Y2O3 | 氧化釔 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
AZO | 氧化鋅鋁 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
ITO | 氧化銦錫 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
CeO2 | 二氧化鈰 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
Er2O3 | 氧化鉺 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
Sm2O3 | 氧化釤 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
Nd2O3 | 氧化釹 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
Fe3O4 | 氧化鐵 靶材 | 4N | >80% | 磁控濺射設備、離子濺射儀 |
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