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氧化物靶材

2020-06-12 12:00
蒂姆(北京)新材料科技有限公司可提供多種成分、多種尺寸、多種工藝金屬氧化物靶材。
常用參數:
靶材純度:99.9%、99.95%、99.99%
制備工藝:熱等靜壓、常溫燒結等
靶材形態:平面靶、多弧靶、臺階靶、異形靶
圓靶尺寸:φ25.4*3mm、φ50*3mm、φ50.8*4mm、φ60*3mm、φ76.2*3mm、φ80*4mm、φ101.6*5mm、φ152.4*6mm 尺寸可定制
方靶尺寸:50*50*3mm、100*100*4mm、300*300*5mm 尺寸可定制
綁定服務:陶瓷靶材亦可提供銅背靶銦焊綁定服務,提高陶瓷靶材導電導熱性,提高使用效率
包裝方式:真空包裝
化學式品名純度(%)致密度適用設備
SiO2二氧化硅 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
HfO2二氧化鉿 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
TiO2二氧化鈦 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
ZrO2二氧化鋯 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
WO3三氧化鎢 靶材3N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
Nb2O5五氧化二鈮 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
Ta2O5五氧化二鉭 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
MoO3三氧化鉬 靶材3N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
Sc2O3三氧化二鈧 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
Al2O3氧化鋁 靶材3N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
ZnO氧化鋅 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
MgO氧化鎂 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
Bi2O3氧化鉍 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
Cr2O3氧化鉻 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
NiO氧化鎳 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
V2O5氧化釩 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
Y2O3氧化釔 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
AZO氧化鋅鋁 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
ITO氧化銦錫 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
CeO2二氧化鈰 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
Er2O3氧化鉺 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
Sm2O3氧化釤 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
Nd2O3氧化釹 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀
Fe3O4氧化鐵 靶材4N>80%磁控濺射設備、離子濺射儀


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