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其他化合物靶材

2020-06-12 14:16
蒂姆(北京)新材料科技有限公司可提供多種成分、多種尺寸、多種工藝化合物靶材。
常用參數:
靶材純度:99.99%
制備工藝:熱等靜壓、常溫燒結等
靶材形態:平面靶、多弧靶、臺階靶、異形靶
圓靶尺寸:φ25.4*3mm、φ50*3mm、φ50.8*4mm、φ60*3mm、φ76.2*3mm、φ80*4mm、φ101.6*5mm、φ152.4*6mm 尺寸可定制
方靶尺寸:50*50*3mm、100*100*4mm、300*300*5mm 尺寸可定制
綁定服務:陶瓷靶材亦可提供銅背靶銦焊綁定服務,提高陶瓷靶材導電導熱性,提高使用效率

包裝方式:真空包裝


化學式品名純度(%)致密度適用設備
BN氮化硼 靶材2N5>80%磁控濺射設備
AlN氮化鋁 靶材2N5>80%磁控濺射設備
Si3N4氮化硅 靶材2N5>80%磁控濺射設備
TiN氮化鈦 靶材2N5>80%磁控濺射設備
TaN氮化鉭 靶材2N5>80%磁控濺射設備
ZnS硫化鋅4N>80%磁控濺射設備
MoS2二硫化鉬 靶材4N>80%磁控濺射設備
SnS2二硫化錫 靶材4N>80%磁控濺射設備
WS2二硫化鎢 靶材4N>80%磁控濺射設備
CdS硫化鎘 靶材4N>80%磁控濺射設備
B4C碳化硼 靶材2N5>80%磁控濺射設備
HfC碳化鉿 靶材2N5>80%磁控濺射設備
WC碳化鎢 靶材2N5>80%磁控濺射設備
Mo2C碳化鉬 靶材2N5>80%磁控濺射設備
AlB2硼化鋁 靶材2N5>80%磁控濺射設備
TiC碳化鈦 靶材2N5>80%磁控濺射設備
BC碳化硼 靶材2N5>80%磁控濺射設備
SiC碳化硅 靶材2N5>80%磁控濺射設備
LiTiO3鈦酸鋰 靶材4N>80%磁控濺射設備
LiTaO3鉭酸鋰 靶材4N>80%磁控濺射設備
GST225鍺銻碲 靶材4N>80%磁控濺射設備
Sb2S3硫化銻 靶材3N>80%磁控濺射設備
In2Se3硒化銦 靶材4N>80%磁控濺射設備
InSe硒化銦 靶材4N>80%磁控濺射設備
LiTiO3鈦酸鋰 靶材3N>80%磁控濺射設備
LiTaO3鉭酸鋰 靶材3N>80%磁控濺射設備
LiCoO2鈷酸鋰 靶材3N>80%磁控濺射設備
SrTiO3鈦酸鍶 靶材4N>80%磁控濺射設備
BaTiO3鈦酸鋇 靶材3N5>80%磁控濺射設備
Li0.35La0.57TiO3鈦酸鑭鋰 靶材4N>80%磁控濺射設備
(Ca10(PO4)6(OH)2)羥基磷灰石 靶材4N>80%磁控濺射設備
Y3Fe5O12YIG 靶材4N>80%磁控濺射設備
LaF3氟化鑭 靶材3N>80%磁控濺射設備
NaF氟化鈉 靶材4N>80%磁控濺射設備
CaF2氟化鈣 靶材4N>80%磁控濺射設備
BaF2氟化鋇 靶材4N>80%磁控濺射設備
MgF2氟化鎂 靶材4N>80%磁控濺射設備
KF氟化鉀 靶材4N>80%磁控濺射設備
CeF3氟化鈰 靶材4N>80%磁控濺射設備
SrF3氟化鍶 靶材4N>80%磁控濺射設備
NdF3氟化釹 靶材4N>80%磁控濺射設備
DyF3氟化鏑 靶材4N>80%磁控濺射設備
SmF3氟化釤 靶材4N>80%磁控濺射設備
YbF3氟化鐿 靶材4N>80%磁控濺射設備
YF3氟化釔 靶材4N>80%磁控濺射設備
ErF3氟化餌 靶材4N>80%磁控濺射設備
ZnSe硒化鋅 靶材4N>80%磁控濺射設備
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