蒸發鍍膜可以采用哪幾種蒸發源？各有哪些優缺點

電阻蒸發鍍：電阻蒸發源用于蒸發低熔點材料，如金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等。電阻蒸發源一般采用鎢、鉬、鉭制作。

2.電子束蒸發鍍：利用電子束加熱使膜材汽化蒸發后，凝結在基片表面成膜是真空蒸鍍技術中一種重要的加熱方法。這種裝置的種類很多。隨著薄膜技術的廣泛應用，不但對膜的種類要求繁多，而且對膜的質量要求更加嚴格。電阻蒸發鍍已不能滿足蒸鍍某些金屬和非金屬的需要。電子束熱源能獲得遠比電阻熱源更大的能量密度，數值可達到104-109w/cm2，因此可以將膜材加熱至3000-6000c。這就為蒸發難熔金屬和非金屬材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AI2O3等提供了較好的熱源。而且由于被蒸鍍的材料是放在水冷坩堝內，因而可避免容器材料的蒸發及容器材料與膜材之間的反應，這對提高膜的純度是極為重要的。另外，熱量可直接加到膜材表面上，因此熱效率高，熱傳導和熱輻射損失少。

3.高頻感應加熱蒸發鍍：利用感應加熱原理把金屬加熱到蒸發溫度。將裝有膜層材料的坩堝放在螺旋線圈的中央（非接觸），在線圈中通以高頻電流，可以使金屬膜層材料產生電流將自身加熱升溫，直至蒸發。

感應加熱蒸發源的特點：

1）蒸發速率大

2）蒸發源溫度均勻穩定，不易產生鋁滴飛濺現象

3）蒸發源一次裝料，無須送絲，溫度控制比較容易，操作簡單

4）對膜材純度要求略寬些。

4.電弧加熱蒸發鍍：與電子束加熱方式相類似的一種加熱方式是電弧放電加熱法。它也具有可以避免電阻加熱材料或坩堝材料的污染，加熱溫度較高的特點，特別適用 于熔點高，同時具有一定導電性的難熔金屬、石墨等的蒸發。同時，這一方法所用的設備比電子束加熱裝置簡單，因而是一種較為廉價的蒸發裝置。