濺射氣壓對磁控濺射成膜性能的影響鄭建潮 浙江大學信電系在直流磁控濺射過程中, 濺射氣壓( 工作氣壓)是一個很重要的參數, 它對濺射速率, 沉積速率以及薄膜的質量都有很大的影響。氣體分子從一次碰撞到相鄰的下一次碰撞所通過的距離的統計平均值, 稱之為平均自由程。從分子的平均自由程的角度來說, 濺射氣體壓力低時濺射粒子的平均自由程大, 與氣體離子的碰撞的幾率小, 使沉積速率增大。但是, 濺射氣...
可以用來制備ITO薄膜的成膜技術很多，如磁控濺射沉積 、真空蒸發沉積和溶膠- 凝膠( Sol -Gel)法等。1 磁控濺射沉積磁控濺射沉積可分為直流磁控濺射沉積和射頻磁控濺射沉積。直流磁控濺射是目前應用較廣的鍍膜方法，一般使用導電銦錫合金靶，濺射室抽真空后除了要通入惰性氣體Ar ，還要通入反應氣體O2 。濺射的基本過程：靶材是需要濺射的材料作為陰極，作為陽極的襯底加有數千伏的電壓。在對系統預...
1、氧化鋁基本性能參數2、鍍氧化鋁膜的特點3、鍍氧化鋁膜的方法 鍍氧化鋁膜的方法主要分為物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD），其中物理氣相沉積主要有蒸鍍法和磁控濺射法，蒸鍍法根據加熱方式不同分為電阻加熱、高頻感應加熱和電子束加熱三種，其中電阻加熱的溫度可達1600℃，而電子束和高頻感應加熱可達3000℃。磁控濺射法相比于蒸鍍法，其膜層與基材結合力強、膜層致密性及均勻性好?；瘜W氣相沉...
