蒂姆新材料

可以用來制備ITO薄膜的成膜技術很多，如磁控濺射沉積 、真空蒸發沉積和溶膠- 凝膠( Sol -Gel)法等。1 磁控濺射沉積磁控濺射沉積可分為直流磁控濺射沉積和射頻磁控濺射沉積。直流磁控濺射是目前應用較廣的鍍膜方法，一般使用導電銦錫合金靶，濺射室抽真空后除了要通入惰性氣體Ar ，還要通入反應氣體O2 。濺射的基本過程：靶材是需要濺射的材料作為陰極，作為陽極的襯底加有數千伏的電壓。在對系統預...

1、氧化鋁基本性能參數2、鍍氧化鋁膜的特點3、鍍氧化鋁膜的方法 鍍氧化鋁膜的方法主要分為物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD），其中物理氣相沉積主要有蒸鍍法和磁控濺射法，蒸鍍法根據加熱方式不同分為電阻加熱、高頻感應加熱和電子束加熱三種，其中電阻加熱的溫度可達1600℃，而電子束和高頻感應加熱可達3000℃。磁控濺射法相比于蒸鍍法，其膜層與基材結合力強、膜層致密性及均勻性好?；瘜W氣相沉...

真空鍍鋁膜性能指標及厚度測量方法一、鍍鋁膜厚度測量方法鍍鋁膜厚度測量一般采用下述三種方法。第一種是光密度法，以光線透過鍍鋁膜的密度來衡量。用光密度計量鍍鋁層厚度的優點是方便、準確，測量結果不易受表面氧化層的影響。光密度值與入射光波長有關。第二種是采用表面方塊電阻測量。此法簡單實用，一般鋁層厚度對應的表面電阻一般在1~2。取樣或寬1cm長，10cm的電阻值在1~20之間。鍍膜剛下卷時，鋁層表面...

說到顯示技術，大家最熟悉的可能還是LCD和LED液晶顯示屏，但若您現在再去商城采購，會發現OLED（有機發光二極管）顯示技術已經成為了新的主流。OLED技術是指有機半導體材料和發光材料在電場驅動下，通過載流子注入和復合導致發光的現象。作為一種固態自發光技術，OLED不需要以前用LCD搭配LED背光源的組合，因此可以將電視厚度做得很薄，可視角度更廣、功耗更低、色彩也更豐富，并且可以在塑料、樹脂...

用粘附性判定標準值判斷薄膜粘附性好壞的一種方法與流程本發明屬于超聲表面波無損檢測領域，涉及一種薄膜粘附性好壞的判定方法。背景技術：薄膜科學在微電子領域有著重要的應用。Low-k互連是高速超大規模集成(ULSI)電路發展中的一個重要理念，由于其可以減少互連延遲，串擾以及電路的能量損耗。在low-k薄膜的各項特性中，界面粘附性是一個非常重要的特性，它顯著地影響了互連系統的穩定性和可靠性。在薄膜的...

ITO 是Indium Tin Oxides的縮寫，即摻錫氧化銦。是透明導電氧化物TCOs的一種，由于最好的導電性和透明性的組合性能，成為最主要的透明導電材料，主要應用于液晶顯示器，觸摸屏，太陽能薄膜電池，照明用有機EL元件等領域。氧化銦，只吸收紫外光，不吸收可見光，因此達到“透明”的表現。摻錫，雖然會損失透光度，但可以提高導電能力。因此，透光度和導電性是兩個相互牽制的指標?！　TO原料，...

ITO薄膜制作過程中的影響因素 作者：陳長增

說到ITO真空鍍膜機鍍制ITO薄膜，可能大家不知道是什么東西，如果說手機屏幕上面有一層透視的觸摸屏，大家就會恍然大悟，我們現在日常使用的手機，上面都用一種ITO薄膜材料，即實現了透視的效果，也實現了觸屏的效果。近些年，手機更新換代，使用廣泛，幾乎人手一臺，ITO薄膜可以說消耗量也是巨大的。今天小編要為大家講的是ITO真空鍍膜機薄膜制作的影響因素：ITO真空鍍膜機鍍制ITO薄膜在濺鍍過程中會產...

膜厚均勻度是衡量薄膜質量和鍍膜裝置性能的一項重要指標。為提高膜厚均勻度，可以采取優化靶基距、改變基片運動方式、增加擋板機構和膜厚監控儀等措施。對于磁控濺射鍍膜，由于其電磁場并非均勻，尤其是不均勻的磁場分布造成不均勻的等離子密度，導致靶原子的...

1、等離子體增強化學氣相沉積的主要過程         等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）技術是借助于輝光放電等離子體使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。由于PECVD技術是通過應氣體放電來制備...

脈沖磁控濺射是采用矩形波電壓的脈沖電源代替傳統直流電源進行磁控濺射沉積。脈沖磁控濺射技術可以有效的抑制電弧產生進而消除由此產生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射沉積速率，降低沉積溫度等一系列顯著優點。         脈沖可分為雙向脈沖和單向脈沖...

濺射鋁膜的結構分析用X-PertProMPP型X射線粉末衍射儀對制備的AL膜微結構進行測試分析。X光管為Cu靶,CuKa射線波長為0.154056 nm,管壓為40kV,管流為40mA,采用連續掃描方式,掃描范圍2θ為5°～90°。圖3 是...

2009-02-17 陳國良 福州大學物理與信息工程學院金屬薄膜作為重要的光電材料,由于其優異的光學性質和電學性質,在薄膜電路和微電子電路以及器件中被廣泛應用。在所有的金屬材料中,Al不但具有僅次于Au、Ag、Cu3種金屬的良好導電性和導熱...

一、非均衡磁控濺射假設經過磁控濺射陰極的內、外兩個磁極端面的磁通量不相等,則爲非均衡磁控濺射陰極。普通磁控濺射陰極的磁場匯集在靶面臨近,而非均衡磁控濺射陰極的磁場很多向靶外發散普通磁控陰極磁場將等商子體緊密地約束在靶面跗近,而基片臨近等離子...

膜強度不良的產生原因：① 基片與膜層的結合。一般情況，在減反膜中，這是膜弱的主要原因。由于基片表面在光學冷加工及清洗過程中不可避免地會有一些有害雜質附著在表面上，而基片的表面由于光學冷加工的作用，總有一些破壞層，深入在破壞層的雜質(如水汽、...

二、膜料點膜料點不良也是鍍膜產品的一個常見問題，在日企、臺企把膜料點稱為“斑孔”顧名思義，膜料點就是蒸鍍中，大顆粒膜料點隨著膜料蒸汽分子一起蒸鍍到了基片的表面，在基片表面形成點狀的突起，有時是個別點，嚴重時是成片的細點，大顆粒點甚至可以打傷...

隨著科技技術的發展和經濟全球化，當今人類已進入知識經濟社會和信息社會。并且伴隨“中國制造”的發展，光學制造在中國大陸的土地上方興未艾，發展迅猛異常。中國光學制造已經開始在國際經濟舞臺上有了重要的地位，中國的光學玻璃產量和光學零件產量已近名列...

本文內容轉載自《傳感器與微系統》，版權歸《傳感器與微系統》編輯部所有。陳俊光，谷專元，何春華，黃欽文，來萍，恩云飛工業和信息化部電子第五研究所，廣東工業大學自動化學院，華南理工大學電子與信息學院摘要：針對微機電系統（MEMS）器件的可靠性問...

磁控濺射通常的濺射方法，濺射效率不高。為了提高濺射效率，首先需要增加氣體的離化效率。為了說明這一點，先討論一下濺射過程。當經過加速的入射離子轟擊靶材(陰極)表面時，會引起電子發射，在陰極表面產生的這些電子，開始向陽極加速后進人負輝光區，并與...

非金屬真空鍍膜技術是以耐溫性能良好的塑料薄膜為基材，以SiO、SiO2、MgO、Al2O3、TiO2、Gd2O3、Y2O3等物為蒸鍍原料，經高溫、高真空蒸發附積在基材表面，形成一層致密鍍膜，獲得像鍍鋁那樣具有高阻隔性、且微波透過性能良好的復...