摘要：
目的：
研究濺射功率對CoCrFeNi高熵合金薄膜硬度和電阻率的影響,期望獲得同時具有高硬度和高電阻率的高熵合金薄膜,為其在電阻薄膜領域的應用提供實驗基礎.
方法：
在不同濺射功率條件下(40、60、80、100 W),利用CoCr合金靶、Ni片和Fe片拼接成合金靶,采用磁控濺射法在硅基底表面沉積CoCrFeNi高熵合金薄膜.利用XRD分析薄膜相結構,通過SEM分析薄膜成分和形貌,利用顯微硬度計測量薄膜硬度,采用雙電測四點探針法測定薄膜電阻率.結果不同濺射功率下制備的CoCrFeNi薄膜均與基底結合良好,呈柱狀生長模式,且合適的濺射功率有助于獲得等摩爾比高熵合金薄膜.隨著濺射功率由40 W升高至100 W,薄膜結晶性得到改善,形成簡單的FCC相,(111)擇優生長更加強烈,柱狀生長愈加明顯,晶粒尺寸增大,硬度和電阻率降低.
結論：
濺射功率對CoCrFeNi薄膜組織和性能具有重要影響.當濺射功率為40 W時,CoCrFeNi薄膜同時具有最高硬度和最大電阻率,其值分別為940.5HV和336.5μΩ?cm.

文章出處：
作者：談淑詠劉曉東霍文燚方峰杜興皮錦紅王章忠
單位名稱：
南京工程學院材料科學與工程學院,南京 211167;
江蘇省先進結構材料與應用技術重點實驗室,南京 211167
東南大學材料科學與工程學院,南京,211189
南京工程學院材料科學與工程學院,南京,211167
鏈接：http://www.wanfangdata.com.cn/details/detail.do?_type=perio&id=bmjs201910020# ;

相關文獻：
1.氮流量比對磁控濺射(CoCrFeNi)Nx高熵合金薄膜的組織和性能的影響
作者：劉曉東談淑詠霍文燚張旭海邵起越方峰
單位：
東南大學江蘇省先進金屬材料高技術研究重點實驗室南京211189
南京工程學院材料工程學院南京211167
鏈接：http://www.wanfangdata.com.cn/details/detail.do?_type=perio&id=clyjxb201903004

摘要：
采用直流磁控濺射法制備(CoCrFeNi)Nx高熵薄膜,研究了氮流量比對薄膜的力學性能和電磁性能的影響.結果表明,在不同氮流量比條件下制備的(CoCrFeNi)Nx薄膜,都具有致密的組織、簡單的FCC結構并呈現(200)擇優取向.隨著氮流量比從10％提高到30％,薄膜的硬度和彈性模量隨之增大,其最大值達到14 GPa和212 GPa;電阻率基本上呈增大的趨勢,最大值達到138 μΩ·cm;飽和磁化強度和磁導率隨之減小,薄膜飽和磁化強度最高為427.43 emu/cm3.薄膜的矯頑力約為0.

高熵合金制備專用材料：
CoCr合金靶材，尺寸、成分比例可定制
NiFe合金靶材，尺寸、成分比例可定制
Ni 片/Ni 靶材，尺寸可定制
Fe 片/Fe 靶材，尺寸可定制

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