鉬靶材，由高純度鉬粉熱壓燒結制備而成。
一、主要用途
鉬靶材適用于工業級鍍膜，實驗或研究級別用鉻靶材，電子，光電，軍用，裝飾，功能薄膜等。廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業，適用所有平面鍍膜及旋轉鍍膜系統。
二、適用濺射設備品牌
1、適用設備：單靶濺射系統，雙靶濺射系統，JC500型磁控濺射儀，DE300DL 磁控濺射系統
適用設備品牌：
國產品牌：南光機器廠、北京儀器廠、金盛微納、沈陽科儀、JK-LASKER、微電子所等品牌
2、常規尺寸：
1.直徑：1英寸，2英寸，3英寸，4英寸，5英寸等不同直徑
2.厚度：1mm,2mm，3mm，4mm等尺寸可定做
三、產品詳情及價格：
| 貨號 | 產品名稱 | 規格 | 包裝 | 數量 | 單價 | 交期 |
| Mo-T3510 | 鉬 靶材 | 99.95% 200*80*8mm | 片 | 1 |
| 10-12個工作日 |
| Mo-T3523 | 鉬 靶材 | 99.95% φ50.8*3mm | 片 | 1 |
| 10-12個工作日 |
| Mo-T3524 | 鉬 靶材 | 99.95% φ50.8*4mm | 片 | 1 |
| 10-12個工作日 |
| Mo-T3535 | 鉬 靶材 | 99.95% φ60*5mm | 片 | 1 |
| 10-12個工作日 |
| Mo-T3553 | 鉬 靶材 | 99.95%φ76.2*3mm | 片 | 1 |
| 10-12個工作日 |
| Mo-T3565 | 鉬 靶材 | 99.95% φ80*5mm | 片 | 3 |
| 10-12個工作日 |
| Mo-T3575 | 鉬 靶材 | 99.95% φ100*5mm | 片 | 3 |
| 10-12個工作日 |
注：以上均為含稅含運費價格，13%增值稅發票，發票隨貨寄。
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